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Navitas将在苏州建立氮化镓(GaN)单晶衬底研发基地

时间:2024-04-24

根据苏州工业园区的公告,1月24日,苏州纳维科技有限公司(以下简称“苏州纳维技术”)在园区总部大楼举行了奠基仪式。

该项目位于苏州纳米城,总土地面积14000平方米,总建筑面积约34000平方米。

它将建设氮化镓(GaN)单晶衬底研发基地和高端产品生产基地。

预计每年将生产氮化镓单晶。

50,000个基板和外延晶片。

根据数据,苏州纳维达斯技术有限公司成立于2007年5月,致力于氮化镓(GaN)单晶衬底的工业开发,氮化镓(GaN)单晶衬底是第三代半导体行业的核心关键材料。

据介绍,苏州纳威科技已完成材料生长设备的自主研发,用于氮化镓单晶衬底的开发和产业化,是首家实现2英寸氮化镓单晶衬底和完整4英寸衬底的生产的公司。

产品。

工程技术的发展突破了6英寸产品的核心技术,可以同时批量提供2英寸高电导率,半绝缘氮化镓单晶。

苏州纳维科技有限公司董事长徐克表示,总部大楼将专注于苏州纳维科技的生产,研发和其他需求,这标志着公司在营销,生产和研发方面的全力以赴。